Research Research
 Updated September 17, 2001 |
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| 真空アーク蒸着法を用いて，窒化物や酸化物，ＤＬＣ膜などの生成を行っています。
真空アーク蒸着法は，成膜速度や，基板との密着性の点で優れた成膜法です。アークイオンプレーティング法とも呼ばれます。この手法を用いて生成した窒化チタン（TiN）膜は既に実用化され，切削治具（ドリルや包丁の刃）などへの耐摩耗性被膜として用いられています。 しかしながら，その他の窒化物や酸化物薄膜合成への応用は未開拓です。また，真空アーク放電や蒸着法自体にも，未だに不明な点が多く残されています。我々は，この真空アーク蒸着法を用いて新しい薄膜を合成したり，真空アーク現象を解明するためにプラズマ中に存在する粒子種の特定とそのエネルギーを計測したりしています。更に，真空アーク蒸着法のデメリットを克服する装置開発を進めています。 |
真空中の陰極点運動の観測（チタン陰極，窒素ガス雰囲気） （by Fujimura）この陰極点から，薄膜の合成に使われる高エネルギーのイオンが放出されています。
 Updated September 17, 2001 |
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| カーボンナノチューブは，ダイヤモンド，グラファイト，フラーレンに続く第４のカーボン同素体として発見されました。モリブデンの約100倍という高い電子放出能力が注目され，次世代の平面型ディスプレイの電子源への応用に大いに期待されています。その他にも，多くの応用に期待されています。 カーボンナノチューブの生成には，レーザー蒸発法，触媒熱分解法，アーク放電法などがありますが，当研究室では，アーク放電法をベースにした方法，および炭化水素ガスを原料とした触媒熱分解法（ＣＶＤ：化学気相成長法）などについて，様々な研究・実験を行っています。 |
実験室の様子 (at Tao's Web Page)
ナノチューブの写真を見たい！ (at Yatsuki's Web Page)ナビゲーション
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